各種ガスを安全に処理

半導体製造では、工程から発生する各種ガスを安全に処理するために、除害装置（排ガス処理設備）や関連するユーティリティ設備が大きな役割を担っています。一方で、従来の処理構成では、安全性確保のための希釈や大規模な処理設備、さらに後段の水処理設備が必要になりやすく、設備コストだけでなく、設置スペースや運用負荷の面でも工場計画に大きな影響を与えることがあります。結果として、本来は生産設備に使いたい面積が、処理設備や関連インフラに取られてしまうケースも少なくありません。

HELIX環境開発は、こうした半導体排ガス処理の課題に対して、「水からプラズマを生み出す」技術を活用し、処理構成の見直しを提案します。ポイントは、既存の工場設備を大規模に改修する前提ではなく、現行の処理フローや設備構成を活かしながら、必要に応じて後段・最終段階に追加する形（ポイントオブユース／ラストワンマイル）で導入を検討できることです。これにより、希釈や大規模設備に依存しやすい構成を見直し、適用条件に応じて処理設備や関連水処理設備のコンパクト化、運用負荷の低減を図りやすくなります。

また、HELIX環境開発では、装置単体の性能だけでなく、既存設備との接続性、設置スペース、ユーティリティ条件、保守運用体制、生産への影響まで含めて、現場で成立する処理プロセスとして設計することを重視しています。排ガス処理に必要な面積やインフラ負担を抑えることで、工場内のスペースをより生産設備や将来拡張に振り向けやすくし、環境対応と生産性の両立につながる実装を目指します。